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HY2219型次臨界度測量儀

本產品是基于傳統(tǒng)的反應堆噪聲分析技術,結合現(xiàn)代信號分析處理技術研制的現(xiàn)場測量次臨界度的系統(tǒng),通過一個可以定時的中子源驅動所要測量的核系統(tǒng),測量源信號和誘發(fā)裂變信...

  • 詳細信息

一、產品簡介

本產品是基于傳統(tǒng)的反應堆噪聲分析技術,結合現(xiàn)代信號分析處理技術研制的現(xiàn)場測量次臨界度的系統(tǒng),通過一個可以定時的中子源驅動所要測量的核系統(tǒng),測量源信號和誘發(fā)裂變信號之間的相關性和功率譜密度,結合模擬結果的修正得出核系統(tǒng)的次臨界度(keff)。

本產品可在現(xiàn)場直接測量得到次臨界度,填補了目前國內尚沒有可以直接測量keff的方法的空白,特別適用于不能達到臨界的系統(tǒng)。

二、應用領域

本系統(tǒng)適用于各種涉及核材料的處理、儲存、運輸過程的臨界安全監(jiān)控和評估,包括金屬和液態(tài)系統(tǒng)、鈾和钚系統(tǒng)。適用于以下多種場景:燃料前處理和處理設施的監(jiān)控、燃料儲存設施,乏燃料儲存設施等。另外本系統(tǒng)可為次臨界基準評估工作提供校驗用實驗數(shù)據。

三、主要技術指標

本系統(tǒng)目前在研制階段,已實現(xiàn)了在keff0.99附近的完整測量,期望達到的指標為:

  • keff測量范圍為0.70.99。當keff0.9時,不確定度小于1%;
  • 對于液態(tài)系統(tǒng),最快測量時間達到1min,測量下限可達keff0.5。

四、產品特點

1、可直接測量次臨界度,不需要系統(tǒng)達到臨界狀態(tài)用來標定;

2、測量結果與中子源強度和探測器的效率無關,不需要對測量過程中儀器條件漂移做修正;

3、測量對象適用范圍廣,包括均勻和非均勻系統(tǒng),連續(xù)和分立陣列系統(tǒng),金屬和溶液系統(tǒng),以及帶各種反射層材料的系統(tǒng)。


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